diffusion2 반도체 공정 : Ion implantation(이온주입공정)_1탄. Diffusion(확산공정)과의 비교, 중요 파라미터들 안녕하세요!오늘은 이온주입 공정에 대해 배워보겠습니다.이번에는 이온주입공정이 어떤 공정인지, 어떤 요소들을 고려해야 할지 등을 알아보겠습니다.1. 이온주입공정(What is Ion Implantation?)이온주입공정은 말 그대로 Silicon에 이온을 주입하는 공정입니다. 그러면 이 공정이 왜 필요할까요?1. Carrier의 농도를 바꿔서 비저항을 바꾼다.2. Conductivity type을 바꾼다.(n-type, p-type) 2. 이온주입공정과 확산공정의 차이(Ion Implantaion vs Diffusion) 위 그림에서 a)는 확산공정(Diffusion)을 나타내고 b)는 이온주입공정(Ion Implantation)을 나타냅니다.두 공정 다 dopant를 주입한다는 점에서 목적이 같습니다!.. 2024. 4. 6. 반도체 단위 공정 - 확산공정, Diffusion 엄청 쉽게 이해하기! (fick's law) 안녕하세요!오늘은 반도체 단위 공정 중 하나인 diffusion에 대해 배워보겠습니다. Diffusion의 fick's law를 들어가기 전에 두 가지를 먼저 보고 가겠습니다. 1. Fluxdiffusion을 배우려면 가장 기본적으로 알아야 하는게 Flux입니다.Flux가 뭘까요? Flux = (#, mol수, 원자의 개수) / (단위시간 * 단위면적)단위시간 동안 단위면적에 지나가는 원자의 개수라고 쉽게 생각하시면 됩니다!! 2. Diffusion coefficient(D) Diffusion coefficient(D)는 다음 식과 같이 쓰입니다.Diffusion이라는 것 자체가 특정 물질 A가 특정 물질 B로 확산되는 것을 의미합니다.즉, 특정 물질 A가 특정 물질 B로 확산될 때 정해지는 진짜 상수.. 2024. 3. 27. 이전 1 다음
