분류 전체보기64 Etching process(식각 공정) -1탄 : Anisotropy, etch selectivity, etch rate, etch uniformity, 실제 문제 예시 오늘은 Etching 공정에 관해 배워보겠습니다.저번에 Lithography에 관한 포스팅을 했는데, 보통 Lithography 다음에 오는 공정입니다.2024.08.13 - [반도체 연구하기/Semiconductor processing(반도체 공정)] - Photo Lithography process (포토 공정, 리쏘 공정) 쉽게 이해하기, lift-off 공정을 쓰는 이유 Photo Lithography process (포토 공정, 리쏘 공정) 쉽게 이해하기, lift-off 공정을 쓰는 이유1. What is Lithography process?회로가 그려진 photomask를 이용해서 wafer에 pattern을 만드는 공정.Photo : through light(빛을 통해서)Litho : st.. 2024. 8. 14. Photo Lithography process (포토 공정, 리쏘 공정) 쉽게 이해하기, lift-off 공정을 쓰는 이유 1. What is Lithography process?회로가 그려진 photomask를 이용해서 wafer에 pattern을 만드는 공정.Photo : through light(빛을 통해서)Litho : stone (웨이퍼에)Graphy : writing (patterning) 이 공정을 그림으로 보면 훨씬 쉽기 때문에 그려봤습니다!Litho 공정은 앞에 노광(exposure), 현상(develop)까지의 과정으로 photoresist를 원하는 모양으로 patterning 하는 공정입니다.photoresist(PR)에 빛을 쏴주게 되면 물질의 성질이 바뀝니다.약해지거나(positive PR)단단해집니다.(negative PR) 위의 그림은 develop했을 때 빛을 받은 부분이 사라졌기 때문에 posi.. 2024. 8. 13. Ion Implantation(이온주입공정) : 수식으로 이해하기, 모델링하기, 가우시안 분포 안녕하세요!오늘은 이온주입공정을 공부할 겁니다. 우리가 이온을 주입할 때 에너지 강도에 따라, 원자에 따라 달리 깊이도 바뀌고 분산도 바뀐다고 배웠습니다.이를 수식적으로 모델링하는 과정을 설명하겠습니다.(본 포스팅은 서울과학기술대학교 김사라은경 교수님의 ppt자료를 참고했습니다.) 1. Gaussian Distribution(가우시안 분포)(Normal distribusion)원래는 더 복잡한 형태로 이온주입공정이 이루어지지만 우리는 수식적으로 모델링해보는 것이 목적이기 때문에 간단히 가우시안 분포를 사용할 것입니다.식은 이와 같습니다.μ : 평균σ : 표준편차 이를 이온주입공정 식으로 모델링할 것입니다. 2. Ion implantation modelingx는 원자가 들어가는 거리,μ는 원자가 들어가는 .. 2024. 8. 12. 반도체 공정 : Ion implantation(이온주입공정)_1탄. Diffusion(확산공정)과의 비교, 중요 파라미터들 안녕하세요!오늘은 이온주입 공정에 대해 배워보겠습니다.이번에는 이온주입공정이 어떤 공정인지, 어떤 요소들을 고려해야 할지 등을 알아보겠습니다.1. 이온주입공정(What is Ion Implantation?)이온주입공정은 말 그대로 Silicon에 이온을 주입하는 공정입니다. 그러면 이 공정이 왜 필요할까요?1. Carrier의 농도를 바꿔서 비저항을 바꾼다.2. Conductivity type을 바꾼다.(n-type, p-type) 2. 이온주입공정과 확산공정의 차이(Ion Implantaion vs Diffusion) 위 그림에서 a)는 확산공정(Diffusion)을 나타내고 b)는 이온주입공정(Ion Implantation)을 나타냅니다.두 공정 다 dopant를 주입한다는 점에서 목적이 같습니다!.. 2024. 4. 6. 이전 1 2 3 4 5 ··· 16 다음
