반도체 연구하기/Semiconductor processing(반도체 공정)21 반도체 단위 공정 - 확산공정, Diffusion 엄청 쉽게 이해하기! (fick's law) 안녕하세요!오늘은 반도체 단위 공정 중 하나인 diffusion에 대해 배워보겠습니다. Diffusion의 fick's law를 들어가기 전에 두 가지를 먼저 보고 가겠습니다. 1. Fluxdiffusion을 배우려면 가장 기본적으로 알아야 하는게 Flux입니다.Flux가 뭘까요? Flux = (#, mol수, 원자의 개수) / (단위시간 * 단위면적)단위시간 동안 단위면적에 지나가는 원자의 개수라고 쉽게 생각하시면 됩니다!! 2. Diffusion coefficient(D) Diffusion coefficient(D)는 다음 식과 같이 쓰입니다.Diffusion이라는 것 자체가 특정 물질 A가 특정 물질 B로 확산되는 것을 의미합니다.즉, 특정 물질 A가 특정 물질 B로 확산될 때 정해지는 진짜 상수.. 2024. 3. 27. Thermal Oxidation(산화 공정) 3분만에 깊게 이해하기! SiO2가 반도체 공정에서 쓰이는 곳! 안녕하세요! 오늘은 산화공정(Thermal Oxidation)에 대해 배워보도록 하겠습니다. 산화공정은 공정 중 유일한 고온공정(900~1200도)입니다. 높은 온도에서 하는 공정이니 반도체 칩에 안 좋은 영향이 있을 수밖에 없습니다. 특히 금속이 있으면 고온공정이 불가하기 때문에 공정 과정에 초반에 사용할 수 있습니다. 특히 SiO2를 생성할 때만 쓰인다고 봐도 무방합니다. 최신에는 많이 쓰는 공정은 아닌 것 같아요! 그래서 SiO2를 반도체 공정 중 언제 쓰는지에 대해 알아볼게요! (SiO2만들 때만 Thermal Oxidation을 사용하기 때문!) 1. Gate Dielectric(gate oxide) MOSFET구조에서 Gate Oxide는 매우 중요한 역할을 합니다. 특히 gate oxide는.. 2023. 6. 23. Oxidation - Deal-Grove Model(산화, 딜 그루브 모델) 쉽게 이해하기! 안녕하세요. 오늘은 Oxidation 과정을 이해하기 위한 Deal-Grove model에 대해서 공부해 보겠습니다. Deal-Grove model을 설명할 때 자주 나오는 그림입니다. 위 그래프에 대해서 설명하겠습니다. 먼저 Flux가 뭔지 알아야 합니다. F(Flux)는 시간당 단위면적을 통과하는 분자수입니다. 이러한 Flux가 총 세 가지가 있습니다. 1. gas transport flux 기체가 이동하는 flux h : mass transfer coefficient 2. diffusion flux through SiO2 Si와 반응하기 위해서 SiO2를 뚫고 가는 Flux D : diffusivity 3. reaction flux at interface 실리콘과 반응해서 SiO2생성 Ks : su.. 2023. 6. 22. Wafer Cleaning(RCA cleaning, post CMP cleaning) 오늘은 wafer의 cleaing에 대해 다뤄보겠습니다. wafer를 만드는 과정에서, 그리고 공정과정에서도 많은 오염물이 묻습니다. 사람, 공기, 장치로부터... 특히 사람으로부터 sodium(Na)이 가장 많이 떨어져 wafer위로 떨어집니다. 오염물이 묻으면 심한 경우 malfunction이 될 수도 있기 때문에 오염물을 없애는 cleaning과정이 필수입니다. RCA cleaning wet cleaning 방법 중 하나입니다. RCA는 회사이름입니다. RCA cleaning은 크게 세 과정으로 나뉩니다. 1. Organic Clean 유기물을 제거하는 과정 2. Oxide strip 공정하기 전에 생긴 SiO2를 없애는 과정입니다. (실리콘 wafer가 Si이기 때문에 공기 중의 산소 O2와 만나.. 2023. 6. 21. 이전 1 2 3 4 5 6 다음
